镀锇膜技术

Daiwa Techno Systems使用全球独一无二的原创成膜设备,进行等离子体CVD法成膜处理。
【所获日美专利】
第3117687号专利
第3664472号专利
第3954938号专利
US 6858263 B2

等离子体CVD法镀膜的优势

等离子体CVD法成膜共包括两种,分别为PVD(physical vapor deposition:物理气相沉积)法与CVD(chemical vapor deposition:化学气相沉积)法。PVD法是将成膜材料气化态,在基体表面沉积,然后再次固化。PVD法的典型是溅射镀膜。溅射镀膜是让离子轰击靶材,从而撞击出其原子。因此,原子具有方向性,无法让材料均匀地在孔的内壁上成膜。
而CVD法则是通过化学反应分解成膜材料,让其沉积于基体上,并重新固化。等离子体CVD法利用放电等离子来促进分解。因此,覆盖层是在气体氛围中形成的,可以在孔内壁均匀成膜。

成膜方法 PVD法 铂靶 CVD法 锇气氛围
示意图
特点 所形成的皮膜为结晶体,易受颗粒形状影响,而产生边缘效应。很难在内壁均一成膜。 锇颗粒极小,因而所形成的皮膜表面非常光滑。由于使用的是CVD法,绕锇性能较好,可均匀抵达内壁,均一成膜。

镀锇膜的使用效果

电子显微镜孔板使用示例

孔板镀锇膜后可获得的效果如下。

防带电效果

例)FE-TEM CL APERTURE
(TEM荧光板束斑)

无锇
有锇
减轻电子束损伤

例)FE-SEM blanking APERTURE
(定期更换后的孔径影像)

无锇
有锇

镀锇膜实绩

介绍本公司的镀锇膜加工案例。

膜厚


成膜后的镀锇膜非常薄,厚度约为10-100nm。

管内镀膜


本公司的锇镀膜工艺运用独有技术,可实现高纵横比的成膜。最大能够达到7倍。照片为直径2mm,长14mm的管剖开后的状态。可以看到内壁基本已均一成膜。

材质

基本上具有导电性的不污染真空环境的材质均可镀膜。

导电性物质举例 钽、钼、铂、金、钛、不锈钢、钨、铝、铜、硅片

部分非导电性物质可通过特殊方法成膜。

非导电性物质举例 树脂、玻璃

关于锇

锇为灰蓝色铂族稀有金属,是密度最大的金属,为22.57。熔点3045℃,沸点5000℃以上。六方密集晶格结构,常温常压下十分稳定。

锇的特点

锇是一种高熔点金属,其熔点与钨相近。电导率为11.4,属于导电性能较好的稀有金属。同时,锇又是一种极硬的金属,莫氏硬度为8。

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