会社概要
| 会社名 | 株式会社 大和テクノシステムズ |
|---|---|
| 設立 | 昭和42年4月4日 |
| 資本金 | 5,010万円 |
| 代表者 | 代表取締役 渡邊 正範 |
| 役員 | 専務取締役 平本 良一 取締役 兼 相談役 佐藤 礼子 取締役 渡邊 美礼 監査役 河合 健二 |
| 従業員数 | 37名 |
| 所在地・連絡先 |  【本社・営業所 / 研究所】〒194-0041 東京都町田市玉川学園4-24-24 TEL：042-723-1211（代） FAX：042-725-2094【水戸営業所】 〒310-0803 茨城県水戸市城南2-5-45 ユニゾン城南第1ビル103 TEL：029-303-1011（代） FAX：029-233-7300 |
会社沿革
| 1967年4月 | 東京都港区浜松町にてフィラメント製造メーカとして創業 東京都町田市本町田にて大和電子工業㈱町田研究所創設 資本金100万円 |
|---|---|
| 1980年2月 | 現住所に町田研究所社屋を移転 |
| 1983年5月 | 現住所に本社を移転し、併せて資本金400万円に増資 |
| 1986年6月 | 本社町田研究所を増設 |
| 1989年5月 | 茨城県水戸市内にて水戸営業所開設 |
| 1994年4月 | 事業拡大をするに当り、増設ならびに大和電子工業㈱から(株)大和テクノシステムズへ社名変更し組織強化を図る。資本金1,200万円に増資 |
| 2000年10月 | アパーチャープレート及び処理方法において特許取得 |
| 2002年5月 | 新本社ビル完成 |
| 2005年2月 | アパーチャープレートにおける、超微細穴加工仕上げ及びオスミウムコーティング処理方法についての米国特許取得 |
| 2005年3月 | 社内LAN構築 |
| 2005年4月 | アパーチャープレートにおける、超微細穴加工仕上げ及びオスミウムコーティング処理方法についての特許取得 |
| 2005年5月 | ISO9001:2000認証取得 |
| 2007年5月 | オスミウムコーティングCVDプラズマ装置の特許取得 |
| 2008年2月 | 水戸営業所移転 |
| 2008年5月 | ISO14001:2004認証取得 |
| 2008年6月 | 第2社屋完成 |
| 2010年4月 | 資本金5,010万円に増資 |
| 2013年3月 | 成膜処理用治具及びプラズマＣＶＤ装置において特許取得 |
| 2013年5月 | 振り子くんに関して特許取得 (角度変更機能を有する小型試料台) |